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产品介绍
MOVCD碳化硅涂层盘
三责新材MOCVD碳化硅涂层盘，采用高纯等静压石墨，经精密加工、高温纯化和化学气相沉积制备而成。按照图纸要求进行尺寸、平面度、粗糙度等进行精加工以及沉积工艺的结合，以满足使用要求。
性能优势
- 极高纯度: 杂质含量极低，杂质总含量＜5ppm；
- 优异的沉积均匀性: 涂层厚度差异＜15%，确保一致性；
- 高温稳定性: 在高温条件下，涂层仍能保持机械强度和尺寸稳定性；
- 卓越导热性: 涂层能够均匀迅速地传递热量，维持优异的温场均匀性；
- 全面耐腐蚀能力: 对多种化学物质具有卓越的耐腐蚀性，适应严苛的服役环境；
- 超高硬度: 涂层在长期使用后仍保持良好的表面形貌。
规格型号
通常规格为 19片 ×2 吋、14片×4 吋、36 片×4 吋、41 片×4 吋；
典型应用
LED 芯片的外延过程，适合 AIXTRON、Veeco、NIPPON Sanso、中微、中晟等机台。
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