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产品介绍
硅外延碳化硅涂层盘
三责新材硅外延碳化硅涂层盘，采用高纯等静压石墨，在管控环境内进行精密加工、高温纯化和化学气相沉积制备而成。按照图纸要求进行尺寸、平面度、粗糙度等进行精加工以及沉积工艺的结合，以满足使用要求。
性能优势
- 极高纯度: 杂质含量极低，杂质总含量＜2ppm；
- 优异的沉积均匀性: 涂层厚度差异＜10%，确保一致性；
- 高温稳定性: 在高温条件下，涂层仍能保持机械强度和尺寸稳定性；
- 卓越导热性: 涂层能够均匀迅速地传递热量，维持优异的温场均匀性；
- 全面耐腐蚀能力: 对多种化学物质具有卓越的耐腐蚀性，适应严苛的服役环境。
规格型号
通常规格为单片式或多片式6吋、单片式8吋、单片式12吋
典型应用
芯片的外延过程，适合AIXTRON、Veeco、TEL、Nuflare Technology、华创、晶盛、中电科 48 所等机台。
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